觀看日本晚近專利法改革及其發展趨勢

眾律國際法律事務所 編輯部

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隨著人工智慧(Artificial Intelligence)與物聯網(Internet of Things)等新型技術的出現,日本重新審視其專利制度並進行相應的修訂,以加強對專利權的保護和執行。因此,將變得更有利於使用者使用和加強有效執法。

有效執法

大約20年前,日本專利訴訟制度的聲譽不佳,原因包括:訴訟程序緩慢、證據收集工具不完善和賠償金額有限等問題。

然而,從那以後,情況有了很大的改善。例如現今專利訴訟係由專門的法院和部門管理,因此審判速度得以提升。平均而言,從提交到作成決定或處分,一審法院(東京智慧財產權部門或大阪地方法院)約需時1年;至於二審法院(智慧財產高等法院)則約需時6個月。此外,對專利標的沒有嚴格的限制,如果發現侵權,禁令救濟將自動獲得,而無效抗辯則可用於侵權訴訟。

晚近對專利法的修訂進一步加強了專利權的執法

在這方面,前智慧財產高等法院首席法官指出,自她在25年前開始擔任智財法院法官以來,日本的智慧財產權執法體系就有顯著的變化,呈現如下:

1. 快速的程序和決定;

2. 更廣泛的專利請求項結構;

3. 更大的損害賠償金;

4. 有效的證據收集。

檢查

自2020年10月1日起,2019年的《日本專利法修正案》引入了檢查制度,以加強專利訴訟中收集證據的程序。因此,除了文件出示令之外,現在還多一個檢查程序(日文稱之為「Sasho」)。

根據申請,法院可以命令法院指定的檢查員從對方的場所收集相關證據並準備一份報告。該系統的獨特之處在於法院任命了一名公正和中立的專家進行檢查。該程序在提起訴訟後即可使用,並且有保護機密資訊的措施。該系統預計將被使用,例如:

1. 沒有被訴侵權(或者現有程序無法確定侵權)的產品;

2. 使用的生產方法在被訴侵權人的場所;

3. 市場上沒有企業對企業(Business to Business)的產品;

4. 對於難以確定系統如何使用其源代碼運行的電腦程式。

引進法庭之友(Amicus briefs)制度

自2022年4月1日起,2021年《日本專利法修正案》引入了法庭之友制度。此前,專利法院沒有機會聽取第三方的意見,儘管2014年有一個案例(Apple vs Samsung),其中智慧財產高等法院就標準必要專利(SEP)與「公平、合理、無歧視」(FRAND)爭議徵求意見。新制度允許法院在專利侵權訴訟案件中作為法庭之友徵求第三方的意見。由於新技術的出現,法院有時會面臨《專利法》中未明確解決的新問題,該制度對日本智慧財產權制度的發展和專利權有效實施方面很有幫助。

損害賠償

依據日本專利法,專利權人可以根據以下3種計算方法尋求損害賠償:

1. 合理的使用費、

2. 侵權人的利潤、

3. 所失利益。

自2020年4月1日起,對2019年的《專利法》進行了以下兩項關於合理使用費和所失利益的修改。

首先,基於合理授權使用費的損害賠償先前是根據現有授權協議的授權使用費率或與涉案專利中揭露的技術行業或類似的技術行業的市場費率來確定的。但根據該修正案,法院可以假定專利權人與侵權人之間已經在專利有效且被侵權的前提下進行了「假設性談判」,從而可以根據合理的專利使用費增加損害賠償。

其次,合理的授權使用費和所失利益以前是分開計算損害賠償的。惟即使基於所失利益推定的損害賠償僅限於專利權人的生產或者銷售能力的範圍內,該修正案明確指出,對於超出該能力的部分,法院可以按照合理的授權使用費基礎進行裁量。

此外,智慧財產高等法院在2020年前後的大陪審團案中,明確了舉證責任和損害賠償計算方法需要考慮的因素。

除上述內容外,有關賠償金計算的進一步修訂討論正在進行中,包括引入不同類型的提高損害賠償金的可能性,例如非法所得和懲罰性損害賠償金。

保護人工智慧和物聯網相關發明

起訴

隨著新技術的進步,人工智慧和物聯網相關發明領域的專利申請數量正在增加。在這方面,日本特許廳(JPO)在2018年增加了有關專利標的、新穎性和創造性的各種技術領域的範例,以及2019年的請求項說明要求,從而明確了其審查指南和手冊。此外,目前正在討論對重要數據(例如:3D打印機)的保護,儘管程序和數據結構已根據現行專利法歸類為專利標的。

日本最新的專利趨勢也反映在日本特許廳公佈的總體統計數據中,表明日本專利申請的授權率相當高(約75%左右),但從日本特許廳的無效決定中發現專利無效率卻相當低(約20%左右)。

執法

儘管與其他國家一樣,人工智慧和物聯網相關發明的專利申請數量正在增加,但目前此類專利的執行情況並十分明確。為了進一步發展這一領域,日本政府和學術界目前正在討論相關問題,例如:供應鏈中的專利侵權(如美國公平交易委員會vs高通一案、德國諾基亞vs戴姆勒一案)、共同侵權、權利耗盡、自動禁令、標準必要專利(SEP)等,都值得日本當局關注。

資料來源:

Nishimura & Asahi, Recent patent law reforms and pro-patent trends in Japan, Lexology, 14 March 2022. https://www.lexology.com/commentary/intellectual-property/japan/nishimura-asahi/recent-patent-law-reforms-and-pro-patent-trends-in-japan. Last visited 18 May 2022.

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